Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (Chine)

Index « Keywords » - entrée « Deposition rate »
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Deposition process < Deposition rate < Depth profiles  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 3.
Ident.Authors (with country if any)Title
000327 (2013) Aluminum phthalocyanine chloride as a hole injection enhancer in organic light-emitting diodes
000578 (2012) Effect of Target Density on Microstructural, Electrical, and Optical Properties of Indium Tin Oxide Thin Films
000F53 (2009) Annealing behaviors of long-wavelength InAs/GaAs quantum dots with different growth procedures by metalorganic chemical vapor deposition

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EXPLOR_STEP=IndiumV3/Data/Chine/Analysis
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/KwdEn.i -k "Deposition rate" 
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/KwdEn.i  \
                -Sk "Deposition rate" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/biblio.hfd 

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{{Explor lien
   |wiki=   *** parameter Area/wikiCode missing *** 
   |area=    IndiumV3
   |flux=    Chine
   |étape=   Analysis
   |type=    indexItem
   |index=    KwdEn.i
   |clé=    Deposition rate
}}

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