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EXPLOR_STEP=$WICRI_ROOT/Wicri/Terre/explor/ThuliumV1/Data/Pascal/Checkpoint
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Pascal/Checkpoint/KwdEn.i -k "Thin films" 
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Pascal/Checkpoint/KwdEn.i  \
                -Sk "Thin films" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/Pascal/Checkpoint/biblio.hfd 

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{{Explor lien
   |wiki=    Wicri/Terre
   |area=    ThuliumV1
   |flux=    Pascal
   |étape=   Checkpoint
   |type=    indexItem
   |index=    KwdEn.i
   |clé=    Thin films
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