Serveur d'exploration sur le thulium - Analysis (France)

Index « Auteurs » - entrée « K. Lorenz »
Attention, ce site est en cours de développement !
Attention, site généré par des moyens informatiques à partir de corpus bruts.
Les informations ne sont donc pas validées.
K. Labbaci < K. Lorenz < K. Ozga  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 5.
Ident.Authors (with country if any)Title
000153 (2007) L. Bodiou [France] ; A. Braud [France] ; C. Terpin [France] ; J. L. Doualan [France] ; R. Moncorge [France] ; K. Lorenz [Portugal] ; E. Alves [Portugal]Spectroscopic investigation of implanted epilayers of Tm3+:GaN
000178 (2006) T. Wojtowicz [France] ; F. Gloux [France] ; P. Ruterana [France] ; K. Lorenz [Portugal] ; E. Alves [Portugal]TEM investigation of Tm implanted GaN, the influence of high temperature annealing
000179 (2006) T. Wojtowicz [France] ; F. Gloux [France] ; P. Ruterana [France] ; G. Nouet [France] ; L. Bodiou [France] ; A. Braud [France] ; K. Lorenz [Portugal] ; E. Alves [Portugal]Structure and role of ultrathin AlN layers for improving optical activation of rare earth implanted GaN
000183 (2006) S. Hernandez [Royaume-Uni] ; R. Cusco [Espagne] ; L. Artus [Espagne] ; E. Nogales [Royaume-Uni] ; R. W. Martin [Royaume-Uni] ; K. P. O'Donnell [Royaume-Uni] ; G. Halambalakis [France] ; O. Briar [France] ; K. Lorenz [Portugal] ; E. Alves [Portugal]Lattice order in thulium-doped GaN epilayers : In situ doping versus ion implantation
000192 (2005-05-30) S. Hernandez ; R. Cusco ; L. Artus ; E. Nogales ; Rw Martin ; Kp O'Donnell ; G. Halambalakis ; Olivier Briot [France] ; K. Lorenz ; E. AlvesLattice order in thulium-doped GaN epilayers: In situ doping versus ion implantation

List of associated KwdEn.i

Nombre de
documents
Descripteur
4MOCVD
4Thulium additions
3Gallium nitrides
2Annealing
2Binary compounds
2Doped materials
2Doping
2Experimental study
2High temperature
2III-V semiconductors
2Ion implantation
2Nanocrystal
2Optical materials
2Raman scattering
2Transmission electron microscopy
1AMORPHIZATION
1Aluminium nitrides
1Ambient temperature
1Charge carrier trapping
1DAMAGE
1Damage
1EMISSION
1ER
1Energy gap
1Epitaxial layers
1Europium additions
1Excitation spectrum
1Fluence
1Heat treatments
1Impurity cluster
1Impurity site
1MOLECULAR-BEAM EPITAXY
1Molecular beam epitaxy
1Nanostructured materials
1Photoluminescence
1RAMAN-SCATTERING
1Raman spectra
1Semiconductor epitaxial layers
1Stacking fault density
1Stacking faults
1Surface layers
1TEMPERATURE
1THIN-FILMS
1Vacancies
1ion beam implantation
1rare earth doping

Pour manipuler ce document sous Unix (Dilib)

EXPLOR_STEP=$WICRI_ROOT/Wicri/Terre/explor/ThuliumV1/Data/France/Analysis
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/France/Analysis/Author.i -k "K. Lorenz" 
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/France/Analysis/Author.i  \
                -Sk "K. Lorenz" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/France/Analysis/biblio.hfd 

Pour mettre un lien sur cette page dans le réseau Wicri

{{Explor lien
   |wiki=    Wicri/Terre
   |area=    ThuliumV1
   |flux=    France
   |étape=   Analysis
   |type=    indexItem
   |index=    Author.i
   |clé=    K. Lorenz
}}

Wicri

This area was generated with Dilib version V0.6.21.
Data generation: Thu May 12 08:27:09 2016. Site generation: Thu Mar 7 22:33:44 2024