Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (France)

Index « Auteurs » - entrée « N. Proust »
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N. Preda < N. Proust < N. R. De Tacconi  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 7.
Ident.Authors (with country if any)Title
001012 (2002) GaN epitaxy: How to characterize hazards for the operators
002516 (1993) Dépôt de nitrure de bore par PECVD pour son utilisation comme isolant de grille dans les structures MISFET sur InP
002558 (1993) Silicon oxide deposited of N2O and SIH4 at 185 nm on sulfur-treated InP: application to InP MISFETs
002777 (1992) Etude d'un système de destruction de l'arsine et de la phosphine à déchets revalorisables
002786 (1992) Dépôts de nitrure de silicium et de silice par méthode photochimique. Passivation de la surface d'InP par (NH4)2Sx. Application au MISFET-InP
002787 (1992) Dépôt de SiO2 par plasma microonde à Résonance Cyclotronique Electronique Répartie (RCER). Application à l'étude de structures SiO2/InP
002A48 (1991) Electrical properties of distributed electron cyclotron resonance plasma-deposited SiO2-InP diodes

List of associated KwdEn.i

Nombre de
documents
Descripteur
5Indium Phosphides
4Chemical vapor deposition
4Field effect transistor
4Thin film
3MIS structure
3Silicon Oxides
2Deposition
2Electrical properties
2Interface
2Metal semiconductor field effect transistor
2Microelectronic fabrication
2Performance
2Semiconductor materials
2Temperature
2Theoretical study
2Voltage capacity curve
1Aluminium nitrides
1Annealing
1Arsine
1Binary compounds
1Chemical decomposition
1Chemical instability
1Chemisorption
1Critical field
1Criticism
1Cyclotron resonance
1Density of states
1Diode
1Drift current
1Electrical insulation
1Flue gas purification
1Gallium nitrides
1Indium nitrides
1Infrared spectrometry
1Insulating material
1Low temperature
1MIS transistor
1MOCVD
1Materials
1Metal Organic compounds
1Microwave
1Mixture
1Modeling
1Occupational exposure
1Passivation
1Performance characteristic
1Phosphine
1Photolysis
1Physicochemical properties
1Plasma
1Plasma deposition
1Plasma etching
1Radiofrequency sputtering
1Refraction index
1Resistivity
1Risk assessment
1Room temperature
1Scrubber
1Silicon Nitrides
1Spectral sensitivity
1Temperature effect
1Ternary compounds
1Thermal annealing
1Toxicity
1Transistor gate
1Transmittance
1Voltage current curve

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