IndiumV3, France, Analysis, indexItem, Author.i, J. L. Courant

J. L. Cardin < J. L. Courant < J. L. Debrun

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Number of relevant bibliographic references: 7.

Ident.	Authors (with country if any)	Title
001224 (2001)		Inductively coupled plasma -- plasma enhanced chemical vapor deposition silicon nitride for passivation of InP based high electron mobility transistors (HEMTs)
001699 (1999)		Modeling and dynamic simulation of ultraviolet induced growing interfaces
001A42 (1998)		A Monte carlo simulation of silicon nitride thin film microstructure in ultraviolet localized-chemical vapor deposition
001A70 (1997-11)		Electrical properties of metal-insulator-semiconductor structures with silicon nitride dielectrics deposited by low temperature plasma enhanced chemical vapor deposition distributed electron cyclotron resonance
001B86 (1997)		UV-deposited silicon nitride coupled with XeF2 surface cleaning for III-V optoelectronic device passivation
002526 (1993)		UVCVD dielectric films for InP-based optoelectronic devices
002A78 (1990)		Silice UVCVD pour transistors MISFET autoalignés sur InP

List of associated KwdEn.i

Nombre de documents	Descripteur
3	Indium Phosphides
2	CVD
2	Chemical vapor deposition
2	Experimental study
2	Field effect transistor
2	Microelectronic fabrication
2	Monte Carlo methods
2	Optoelectronic device
2	Passivation
2	Silicon Nitrides
2	Silicon nitrides
2	Theoretical study
2	Thin film
1	Annealing
1	Avalanche diode
1	Cleaning
1	Deposition
1	Dielectric materials
1	Diode
1	Electric breakdown
1	Electrical resistivity
1	Elemental semiconductors
1	Ellipsometry
1	Fabrication structure relation
1	High electron mobility transistor
1	Hydrogen
1	Hydrogen additions
1	III-V compound
1	III-V semiconductors
1	Indium compounds
1	Indium phosphide
1	Inductively coupled plasma
1	Infrared spectrometry
1	Integrated circuit
1	Interface states
1	Leakage current
1	MIS diode
1	MIS structure
1	MIS structures
1	Manufacturing process
1	Metal semiconductor field effect transistor
1	Microstructure
1	Modelling
1	Nucleation
1	Optical fiber
1	PECVD
1	Photodetector
1	Photodiode
1	Photolysis
1	Plasma enhanced chemical vapor deposition
1	Poole-Frenkel effect
1	Roughness
1	Self aligned technology
1	Semiconductor materials
1	Silica
1	Silicon
1	Silicon compounds
1	Silicon nitride
1	Simulation
1	Surface structure
1	Surface treatment
1	Technology
1	Temperature
1	Thermal annealing
1	Thin films
1	Ultraviolet radiation
1	Voltage current curve

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Data generation: Mon Jun 9 10:27:54 2014. Site generation: Thu Mar 7 16:19:59 2024

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