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Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (France)

Index « Auteurs » - entrée « F. Plais »
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F. Pizzi < F. Plais < F. Podevin  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 2.
Ident.Authors (with country if any)Title
002787 (1992) Dépôt de SiO2 par plasma microonde à Résonance Cyclotronique Electronique Répartie (RCER). Application à l'étude de structures SiO2/InP
002A48 (1991) Electrical properties of distributed electron cyclotron resonance plasma-deposited SiO2-InP diodes

List of associated KwdEn.i

Nombre de
documents		Descripteur
2Indium Phosphides
2Silicon Oxides
2Thin film
1Cyclotron resonance
1Deposition
1Diode
1Electrical properties
1Field effect transistor
1Interface
1Low temperature
1MIS structure
1Metal semiconductor field effect transistor
1Microwave
1Performance
1Performance characteristic
1Plasma
1Plasma etching
1Room temperature
1Temperature
1Theoretical study
1Voltage capacity curve

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EXPLOR_STEP=IndiumV3/Data/France/Analysis

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   |clé=    F. Plais
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