Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (Chine)

Index « Keywords » - entrée « Sputter etching »
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Sputter deposition < Sputter etching < Sputtered coatings  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 5.
Ident.Authors (with country if any)Title
001C84 (2002-05) High-density plasma-induced etch damage of wafer-bonded AlGaInP/mirror/Si light-emitting diodes
002299 (1998-11) BCl3/Ar reactive ion etching for gate recessing of GaInP/InGaAs/GaAs pseudomorphic high electron mobility transistors
002311 (1998-07) Reactive ion etching for AlGalnP/GaInP laser structures
002332 (1998-03-30) Optical modes within III-nitride multiple quantum well microdisk cavities
002344 (1998-01) Reactive ion etching of CHF3+BCl3 for ternary InxAl1-xAs and InxGa1-xAs (x=0.18, 0.3, 0.52) compounds using various In contents

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EXPLOR_STEP=IndiumV3/Data/Chine/Analysis
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/KwdEn.i -k "Sputter etching" 
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/KwdEn.i  \
                -Sk "Sputter etching" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/biblio.hfd 

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{{Explor lien
   |wiki=   *** parameter Area/wikiCode missing *** 
   |area=    IndiumV3
   |flux=    Chine
   |étape=   Analysis
   |type=    indexItem
   |index=    KwdEn.i
   |clé=    Sputter etching
}}

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