Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (Chine)

Index « Auteurs » - entrée « WEI DENG »
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WEI CHEN < WEI DENG < WEI DOU  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 2.
Ident.Authors (with country if any)Title
000048 (2013) a-IGZO TFTs With Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposited SiOx Gate Dielectric
000287 (2013) Effect of O2 Flow Rate During Channel Layer Deposition on Negative Gate Bias Stress-Induced Vth Shift of a-IGZO TFTs

List of associated KwdEn.i

Nombre de
documents
Descripteur
2Amorphous material
2Gallium oxide
2Indium oxide
2Microelectronic fabrication
2Thin film transistor
2Zinc oxide
1Atomic force microscopy
1Chemical vapor deposition
1Electric stress
1Electrical characteristic
1High performance
1Induced voltage
1Inductively coupled plasma
1Low temperature
1On off effect
1Optimal flow
1Oxygen
1PECVD
1Scanning electron microscopy
1Silicon oxides
1Sputter deposition
1Stress effects
1Vacancy
1Voltage threshold

Pour manipuler ce document sous Unix (Dilib)

EXPLOR_STEP=IndiumV3/Data/Chine/Analysis
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/Author.i -k "WEI DENG" 
HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/Author.i  \
                -Sk "WEI DENG" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/biblio.hfd 

Pour mettre un lien sur cette page dans le réseau Wicri

{{Explor lien
   |wiki=   *** parameter Area/wikiCode missing *** 
   |area=    IndiumV3
   |flux=    Chine
   |étape=   Analysis
   |type=    indexItem
   |index=    Author.i
   |clé=    WEI DENG
}}

Wicri

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Data generation: Mon Jun 9 10:27:54 2014. Site generation: Thu Mar 7 16:19:59 2024