Auteurs
Analysis
Chine
Racine
Analysis
Chine
Repository
Accueil
Racine
Racine

Serveur d'exploration sur l'Indium - Analysis (Chine)

Index « Auteurs » - entrée « SHIPENG CHI »
Attention, ce site est en cours de développement !
Attention, site généré par des moyens informatiques à partir de corpus bruts.
Les informations ne sont donc pas validées.
SHINGJIANG JESSIE LUE < SHIPENG CHI < SHIQIANG LU  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 1.
Ident.Authors (with country if any)Title
000287 (2013) Effect of O2 Flow Rate During Channel Layer Deposition on Negative Gate Bias Stress-Induced Vth Shift of a-IGZO TFTs

List of associated KwdEn.i

Nombre de
documents		Descripteur
1Amorphous material
1Electric stress
1Electrical characteristic
1Gallium oxide
1Indium oxide
1Induced voltage
1Microelectronic fabrication
1Optimal flow
1Oxygen
1Sputter deposition
1Stress effects
1Thin film transistor
1Vacancy
1Voltage threshold
1Zinc oxide

Pour manipuler ce document sous Unix (Dilib)

EXPLOR_STEP=IndiumV3/Data/Chine/Analysis

HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/Author.i -k "SHIPENG CHI" 

HfdIndexSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/Author.i  \
                -Sk "SHIPENG CHI" \
         | HfdSelect -Kh $EXPLOR_AREA/Data/Chine/Analysis/biblio.hfd

Pour mettre un lien sur cette page dans le réseau Wicri

{{Explor lien
   |wiki=   *** parameter Area/wikiCode missing *** 
   |area=    IndiumV3
   |flux=    Chine
   |étape=   Analysis
   |type=    indexItem
   |index=    Author.i
   |clé=    SHIPENG CHI
}}
Wicri

This area was generated with Dilib version V0.5.77.
Data generation: Mon Jun 9 10:27:54 2014. Site generation: Thu Mar 7 16:19:59 2024