Überwachung von Niederdruck‐Plasmaanlagen
Identifieur interne : 000F76 ( Main/Exploration ); précédent : 000F75; suivant : 000F77Überwachung von Niederdruck‐Plasmaanlagen
Auteurs : Walter Michaeli ; Andreas Hegenbart ; Dirk Binkowski ; Friederike V. Fragstein [Allemagne]Source :
- Vakuum in Forschung und Praxis [ 0947-076X ] ; 2007-02.
Abstract
Die optische Emissionsspektroskopie (OES) stellt ein sehr vielfältiges und einfach einzusetzendes Verfahren für die Überwachung von industriellen Plasmaprozessen dar. Durch die direkte Überwachung des Plasmas können zahlreiche Einflussgrößen auf Niederdruck‐Plasmaprozesse erfasst werden, die bisher in der Regel noch nicht erfasst werden. Dabei spielen vor allem Randbedingungen, die nicht direkt beeinflussbar sind, eine wichtige Rolle. Beispiele dafür sind Verunreinigungen und Leckagen in der Plasmaanlage. Diese können sich negativ auf die Reproduzierbarkeit der Prozesse in der Produktion auswirken. Am Beispiel eines Beschichtungsprozesses wird der Einfluss eines Lecks auf die Beschichtung und das Plasma demonstriert. Darüber hinaus wird die Erfassung von Verunreinigungen und Dichtungsproblemen in einer Mikrowellen‐Plasmaquelle mittels OES gezeigt. Mit Hilfe der gezeigten Zusammenhänge lässt sich die OES zur kontnuierlichen Überwachung von Niederdruck‐Plasmaanlagen und damit zur Steigerung der Reproduzierbarkeit industrieller Niederdruck‐Plasmaprozesse einsetzen.
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DOI: 10.1002/vipr.200700309
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