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Réduction chimique20
Abigail Ondeck1
Réduction chimique Sauf Abigail Ondeck" 19
Abigail Ondeck Sauf Réduction chimique" 0
Réduction chimique Et Abigail Ondeck 1
Réduction chimique Ou Abigail Ondeck 20
Corpus7667
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Number of relevant bibliographic references: 1.
Ident.Authors (with country if any)Title
002E64 Nisha Shukla [États-Unis] ; Abigail Ondeck [États-Unis] ; Johanna C. Lee [États-Unis] ; James B. Miller [États-Unis]NiFe2O4@SiO2 Nanoparticles Stabilized by Porous Silica Shells
Wicri

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