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Serveur d'exploration sur les relations entre la France et l'Australie - Checkpoint (PascalFrancis)

Index « Auteurs » - entrée « M. M. M. Bilek »
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M. M. Lopez < M. M. M. Bilek < M. M. Maccollin  Facettes :

List of bibliographic references

Number of relevant bibliographic references: 7.
Ident.Authors (with country if any)Title
002877 (2009) B. Abendroth [Australie] ; S. H. N. Lim [Australie] ; A. Poppleton [Australie] ; S. Remadi [France] ; M. M. M. Bilek [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie]Relation of optical and electrical properties to the microstructure of intrinsic transparent conducting ZnO thin films
004140 (2006) Peter C. T. Ha [Australie, Hong Kong] ; D. R. Mckenzie [Australie] ; M. M. M. Bilek [Australie] ; E. D. Doyle [Australie] ; D. G. Mcculloch [Australie] ; P. K. Chu [Hong Kong]Control of stress and delamination in single and multi-layer carbon thin films prepared by cathodic arc and RF plasma deposition and implantation
004355 (2005) L. Ryves [Australie] ; M. M. M. Bilek [Australie] ; T. W. H. Oates [Allemagne] ; R. N. Tarrant [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie] ; F. A. Burgmann [Australie] ; D. G. Mcculloch [Australie]Synthesis and in-situ ellipsometric monitoring of Ti/C nanostructured multilayers using a high-current, dual source pulsed cathodic arc
004782 (2005) M. M. M. Bilek [Australie] ; M. Verdon [Australie] ; L. Ryves [Australie] ; T. W. H. Oates [Australie] ; C. T. Ha [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie]A model for stress generation and stress relief mechanisms applied to as-deposited filtered cathodic vacuum arc amorphous carbon films
005284 (2002) M. M. M. Bilek [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie] ; R. N. Tarrant [Australie] ; S. H. M. Lim [Australie] ; D. G. Mcculloch [Australie]Plasma-based ion implantation utilising a cathodic arc plasma
005285 (2002) T. W. H. Oates [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie] ; M. M. M. Bilek [Australie]Plasma immersion ion implantation using polymeric substrates with a sacrificial conductive surface layer
005379 (2002) R. N. Tarrant [Australie] ; M. M. M. Bilek [Australie] ; T. W. H. Oates [Australie] ; J. Pigott [Australie] ; D. R. Mckenzie [Australie]Influence of gas flow rate and entry point on ion charge, ion counts and ion energy distribution in a filtered cathodic arc

List of associated FC03.fr.i

Nombre de
documents		Descripteur
5Etude expérimentale
4Couche mince
4Implantation ion
35277D
3Carbone
3Microscopie électronique transmission
3Traitement par plasma
2Arc électrique
2C
2Multicouche
2Titane
2Traitement surface
10130C
142
16172W
17820C
18115E
1Adhérence
1Arc cathodique sous vide filtré
1Arc plasma
1Azote
1Biomatériau
1Composé binaire
1Conductivité électrique
1Couche superficielle
1Courant cathodique
1Courant pulsé
1Densité porteur charge
1Diffraction RX
1Débit volumique
1Délaminage
1Dépendance température
1Dépendance tension
1Dépôt sous vide
1Effet pression
1Ellipsométrie
1Ellipsométrie spectroscopique
1Epaisseur
1Immersion
1Indice réfraction
1Interface
1Isolant électrique
1Matériau amorphe
1Microstructure
1Modèle Drude
1Modélisation
1Méthode phase vapeur
1Nanostructure
1Nucléation
1O Zn
1Optique
1Oxyde de zinc
1Plasma
1Polymère
1Porteur libre
1Propriété électrique
1Préparation
1Relaxation contrainte
1Revêtement
1Semiconducteur II-VI
1Sous bande
1Substrat SiO2
1Ti
1Zinc Oxyde
1ZnO

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