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Pulvérisation haute fréquence3
F. Iacona1
Pulvérisation haute fréquence Sauf F. Iacona" 2
F. Iacona Sauf Pulvérisation haute fréquence" 0
Pulvérisation haute fréquence Et F. Iacona 1
Pulvérisation haute fréquence Ou F. Iacona 3
Corpus11069
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Ident.Authors (with country if any)Title
003C10 M. Miritello [Italie] ; R. Lo Savio [Italie] ; F. Iacona [Italie] ; G. Franzo [Italie] ; C. Bongiorno [Italie] ; A. Irrera [Italie] ; F. Priolo [Italie]The influence of substrate on the properties of Er2O3 films grown by magnetron sputtering
Wicri

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