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Index « Teeft.i » - entrée « Etching »
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Etateca lynaru < Etching < Etching mechanism  Facettes :

List of bibliographic references indexed by Etching

Number of relevant bibliographic references: 8.
Ident.Authors (with country if any)Title
005525 (2012) Seiji Samukawa [Japon] ; Masaru Hori [Japon] ; Shahid Rauf [États-Unis] ; Kunihide Tachibana [Japon] ; Peter Bruggeman [Pays-Bas] ; Gerrit Kroesen [Pays-Bas] ; J Christopher Whitehead [Royaume-Uni] ; Anthony B. Murphy [Australie] ; Alexander F. Gutsol [États-Unis] ; Svetlana Starikovskaia [France] ; Uwe Kortshagen [États-Unis] ; Jean-Pierre Boeuf [France] ; Timothy J. Sommerer [États-Unis] ; Mark J. Kushner [États-Unis] ; Uwe Czarnetzki [Allemagne] ; Nigel Mason [Royaume-Uni]The 2012 Plasma Roadmap
005594 (2012) Feroze Nazneen [Irlande (pays)] ; Grégoire Herzog [France] ; Damien W. M. Arrigan [Australie] ; Noel Caplice [Irlande (pays)] ; Pasquale Benvenuto [Canada] ; Paul Galvin [Irlande (pays)] ; Michael Thompson [Canada]Surface chemical and physical modification in stent technology for the treatment of coronary artery disease
005700 (2012) I. M. Tiginyanu [Moldavie] ; V. Popa ; M. A. Stevens-Kalceff [Australie] ; D. Gerthsen [Allemagne] ; P. Brenner [Allemagne] ; D. Pavlidis [France]Design and maskless fabrication of ultrathin suspended membranes of GaN
008866 (2008) Aurélie Vassort [Royaume-Uni, France] ; Paul Nicholas Shaw [Royaume-Uni, Australie] ; Paul D. Ferguson [Royaume-Uni] ; Roman Szücs [Royaume-Uni] ; David A. Barrett [Royaume-Uni]Comparison of CZE, open‐tubular CEC and non‐aqueous CE coupled to electrospray MS for impurity profiling of drugs
009120 (2007) G A Curley [France] ; D. Mari [France, Serbie] ; J-P Booth [France] ; C S Corr [France, Australie] ; P. Chabert [France] ; J. Guillon [France]Negative ions in single and dual frequency capacitively coupled fluorocarbon plasmas
00C449 (1999) Patrick W. Leech [Australie] ; Mark C. Ridgway [Australie, France]Effect of MeV O2+ implantation on the reactive ion etch rate of LiTaO3
00C453 (1999) M. Mamor [Afrique du Sud] ; F. D Auret [Afrique du Sud] ; S. A Goodman [Afrique du Sud] ; J. Brink [Afrique du Sud] ; M. Hayes [Afrique du Sud] ; F. Meyer [France] ; A. Vantomme [Belgique] ; G. Langouche [Belgique] ; P. N. K Deenapanray [Australie]Deep level properties of erbium implanted epitaxially grown SiGe
00CD61 (1997) M. C. Peignon [France] ; G. Turban [France] ; C. Charles [Australie] ; R. W. Boswell [Australie]Surface modelling of reactive ion etching of silicon–germanium alloys in a SF6 plasma

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